EksplaNL200系列213nm激光器

       Ekspla纳秒激光器NL200系列可配备532nm，355nm，266nm和213nm波长的谐波发生模块。出色的能量稳定性和广泛的波长选择使Ekspla NL200激光器成为光谱学、光声成像和遥感应用的完美工具。机械稳定和气密密封的设计确保了213nm纳秒激光器组件的可靠运行和长寿命。再加之该213激光器短脉冲持续时间、可变重复频率、外部TTL触发和纳秒二极管泵浦等特性，NL200系列纳秒激光器对于脉冲激光沉积、透过面板的剥蚀或者对透明材料的内雕等需要高脉冲能量的应用拥有绝佳的性价比。
       在保持恒定脉冲能量的同时连续调整重复频率、卓越的光束指向和能量稳定性使213高能量纳秒激光器成为微加工、打标、薄膜去除应用的首选。213nm ns激光器NL201，NL202和NL204具有接近高斯平滑光束轮廓，具有低值M₂<1.3和良好的可聚焦性，有利于LCD和OLED显示器修复等应用。Ekspla纳秒激光器紧凑轻便，使激光器易于运输，可有效节省宝贵的实验室空间。
       Ekspla 213nm激光器1064nm基频光可输出高达4mJ的脉冲能量，266nm输出0.6mJ。213激光器在213nm输出脉冲能量0.2mJ。该213nm纳秒激光器NL201的*高频率可达2500Hz，NL202和NL204的*高频率为1000Hz。213高能量纳秒激光器的脉宽为7-10ns，M²<1.3，典型光束直径 0.7mm。