日本OXIDE 114nm脉冲真空紫外激光器 工业级质量，可靠性高

       日本OXIDE 114nm脉冲VUV激光器（11eV光子能量）专为光电子能谱（PES/ARPES/TOF）设计，具备高相干性、微聚焦选项及一体化光学结构，无需调试。提供50MHz/5MHz高重复频率，功率>5μW，分辨率<0.6meV，脉冲带宽<30ps，适用于电池/纳米材料研究。工业级可靠性，降低空间电荷效应，加速科研效率。
       114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/ VUV激光光源/114nmVUV光源（PEV-H,PEV-L）是一款专门为光电子能谱（PES）应用设计的真空紫外（VUV）相干光源。它基于日本OXIDE的深紫外激光技术研发而成。例如，将该VUV光源与角分辨光电子能谱仪（ARPES）和飞行时间（TOF）分析仪集成后，能够构建用于开发电池材料、纳米材料等的新材料开发工具，也有助于实现全新的激光光电子能谱仪。
       日本OXIDE的114nm真空紫外激光器/114激光器/真空紫外VUV相干光源/11eV激光器/114nm激光器/VUV皮秒激光器/114nmVUV光源输出具有相干性，因此可以使用单个透镜将激光聚焦到目标样品上（可选微聚焦）。通过将所有光学元件集成在一个单元内，现场无需对设备进行调整，从而缩短了从设备交付到开始光电子能谱测量的准备时间。PEV系列VUV激光光源专为研究应用设计，具备工业级质量，可靠性高。